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Tratamento com plasma em filmes semicondutores pode melhorar produção de hidrogênio

Esse processo, segundo os pesquisadores, representa uma nova estratégia para aprimorar a molhabilidade de semicondutores

Um estudo recente realizado pelo Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF) da Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (Fapesp) e pelo Centro de Inovação em Novas Energias (CINE) revelou uma abordagem inovadora para o tratamento de filmes de tri-seleneto de antimônio usando plasma. A pesquisa descreve como esse processo tornou hidrofílica (em química - que absorve água ou tem capacidade de absorvê-la) a superfície normalmente hidrofóbica (quando a molécula parece ser repelida pela água) desse material, uma propriedade crucial para sua aplicação como fotocatodo na geração de gás hidrogênio por meio da divisão da molécula de água utilizando energia solar.

O tri-seleneto de antimônio possui propriedades promissoras para ser utilizado na conversão de energia solar em energia química, mas sua natureza hidrofóbica tem limitado seu desempenho em células fotoeletroquímicas. Esse material é considerado essencial para a produção de hidrogênio, um recurso altamente viável para futuras fontes de energia, incluindo sua utilização em veículos.

Os pesquisadores utilizaram plasma de nitrogênio e oxigênio para aumentar a molhabilidade do tri-seleneto de antimônio, possibilitando uma maior fotoeletroatividade na reação de desprendimento de hidrogênio. Esse processo, segundo os pesquisadores, representa uma nova estratégia para aprimorar a molhabilidade de semicondutores.

Detalhes sobre o experimento e os resultados foram publicados no artigo intitulado "Tratamento de plasma de filmes finos eletrodepositados de Sb 2 Se 3 para melhoria da reação de evolução de hidrogênio movida a energia solar", disponível no periódico da Revista de Engenharia Química

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